作为芯片光刻过程的关键耗材，半导体光刻胶当下一直是处于供不应求的状态。

光刻胶属于半导体制造工厂上游，国内半导体工厂的陆续投产带动国内光刻胶需求的提升。与此同时，由于海外光刻胶供应不太稳定，过去两年使得国产光刻胶产业表现出规模和效益同步增长的态势。另外，包括光刻胶在内的半导体产业链相关企业受到产业政策和资本市场的持续支持，资金被有序引导到一级和二级市场，光刻胶板块因此受到了市场更多关注

今天就具体带大家认识下光刻胶这个概念！

光刻：将掩膜板上的图形曝光至预涂了光刻胶的晶圆表面上。光刻胶（正胶）受到照射的部分，将发生化学变化，从而易溶于显影液。光刻胶是芯片制造的支柱设备，一般分为准直透镜系统（EUV除外）、掩膜板对准系统、曝光系统等。光刻机设备的核心零部件包括光源、镜头以及精密结构等。

光刻机演变史，目前以步进式为主，EUV应用于先进制程。光刻机在1985年之前，以g线（436nm）为主；1985年以后，出现少量i线（365nm）光刻机；1990年开始出现DUV光刻机；踏入21世纪，193nm的深紫外线开始使用。13.5nm的EUV在近十年兴起，应用于先进制程。EUV的高分辨率大幅降低重复曝光所需要的沉积、刻蚀等工艺步骤。光刻机从分类方式的演变，从接触式向接近式，最后演变成步进式为主。

2020年，全球光刻机市场约135亿美元，占全球半导体制造设备市场21%。光刻机市场一直以来在全球设备市场中的比重都较高，具有较高技术难度，并且单台设备价值量也较高，属于半导体制造设备的“皇冠”。

光刻机单机价值量高，每年出货数量约300~400台，其中EUV的供应比较有限。根据ASML、Nikon、Canon三家光刻机财报数据统计，近两年全球光刻机每年出货量大约在300~400台之间，整体均价约0.3亿美元。其中主要产品是KrF约90~100台，ArFi约90~100台。近几年EUV出货量在逐步增长，全球仅有ASML具备供应能力，每年出货30~50台，均价超过1亿美元。

ASML主导全球光刻机市场。从光刻机格局来看，2020年ASML占据全球光刻机市场84%的市场空间，Nikon约7%，Canon约5%。ASML具有高度的垄断地位，并且由于EUV跨越式的升级进步，ASML在技术上的领先性更加明显。

全球光刻机龙头ASML，高研发、高利润率。ASML在2020年营业收入140亿美元，其中75%的收入来自于销售设备，25%的收入来自于服务。公司综合毛利率52%，营业利润率35%，净利率32%。全年平均ROE约27%。公司研发投入22亿美元，占比约16%。ASML保持高强度研发投入，并且服务收入占比不断提高，巩固垄断地位。

上海微90nm光刻机项目已经正式通过验收。上海微在2002年成立。2006年公司光刻机产品注册商标获得国家工商局批准。2008年十五光刻机重大科技专项通过了国家科技部组织的验收。2009年交付首台先进封装光刻机产品。2013年公司国产首台用于2.5代AM-oLEDTFT电路制造的光刻机成功交付用户。2016年，公司首台暨国内首台前道扫描光刻机交付用户。2018年，公司90nm光刻机项目通过正式验收。

可以看到，光刻胶板块上市公司业绩表现普遍较好，而这正是众机构看好该板块后市配置机会的重要支撑。数据显示，在40家光刻胶板块上市公司中，今年一季度实现净利润同比增长的公司共有39家，占比逾九成。截至目前，有11家公司已披露了2021年上半年业绩预告，这11家公司业绩全部预喜。

值得一提的是，近期机构纷纷看好光刻胶概念股的后市投资机会。近30日内，共有14只概念股获得机构给予“买入”或“增持”等看好评级，相关产业链机会可以持续关注。